수율 끌어올린 '하이-NA'...삼성 1d 도입 가능성
ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광장비인 '하이-NA EUV'가 최근 수율 개선을 보이면서 주요 반도체 기업들의 관심을 끌고 있다. 특히 10나노급 6세대(1c) D램의 수율 문제로 양산에 어려움을 겪고 있는 삼성전자가 하이-NA를 활용해 새로운 돌파구를 마련할 수 있을지 주목받고 있다. 일각에서는 삼성전자가 현재 파운드리에서 시범 운용 중인 하이-...
