삼성전자 "내년 GAA 기반 3나노 양산"
삼성전자가 내년부터 게이트 올 어라운드(GAA) 기술을 3나노(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 반도체 공정에 도입한다. 또 2025년부터는 2나노 미세공정 시대를 열겠다는 계획이다. 삼성전자는 6일(미국 현지시간) '파운드리 포럼 2021' 온라인 행사를 열고, GAA 기술 기반 미세공정 양산 계획을 발표했다. 최시영 삼성전자 파운드리사업부 사장은 이...
