한화세미텍 "플럭스리스 본더, 특허 출원까지 마쳐"
"플럭스 없이 산화막을 제거하기 위해서는 포믹 애씨드(formic acid, 포름산) 또는 플라즈마를 이용하는 기술이 필요합니다. 현재 두 가지의 장점만 살린 '어드밴스드' 포믹 애씨드와 플라즈마·포토닉 융합 기술을 개발해 특허 출원까지 마쳤습니다." 박영민 한화세미텍 반도체장비사업부장 상무는 27일 수원 컨벤션센터에서 열린 '2025 반도체 패키징 트...
